等离子废气处理设备清洗技术

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等离子废气处理设备清洗技术

在高密度电子组装和精密机械制造的生活中,湿法清洗技术越来越受到限制,干洗的机理和应用也越来越迫切。等离子有机废气处理清洗技术在干洗方面具有明显的优势。下一幕长兴环保讲解等离子清洗的机理。

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电子工业中的清洁是一个非常宽泛的概念,包括任何与污染物去除相关的过程,但是不同物体的清洁方法有很大的不同。目前,在电子工业中广泛使用的物理和化学清洗方法从操作模式上可以大致分为两种:湿法清洗和干法清洗(等离子有机废气处理)。湿法清洗已广泛应用于电子工业。清洁主要取决于物理和化学(溶剂)效应。

等离子体清洗不同于湿式清洗,因为等离子体清洗的机理是依靠“等离子体状态”的物质的“活化”来去除物体表面的污渍。

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等离子体清洗技术的最大特点是可以进行处理离子,如金属、半导体、氧化物和大部分高分子材料(如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烯、环氧树脂、甚至聚四氟乙烯)等基础材料,而不管处理对象的衬底类型,并且可以实现整体、部分和复杂结构的清洗。

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等离子体有机物废气处理后的衬底表面会留下一层含氟的灰质,可通过溶液去除。同时,有利于提高表面附着力和润湿性。清洁过程中等离子体表面活化形成的自由基可进一步形成特定的官能团。这种特殊官能团,特别是含氧官能团的引入,在改善材料的粘附性和润湿性方面起着明显的作用。

从目前的各种清洗方法来看,等离子清洗也是所有清洗方法中最彻底的剥离清洗。

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